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薄膜表面不平度对厚度测试准确度影响的研究
引用本文:孙艳,赵宏,王昭.薄膜表面不平度对厚度测试准确度影响的研究[J].半导体光电,2005,26(2):112-114.
作者姓名:孙艳  赵宏  王昭
作者单位:西安交通大学,机械工程学院,陕西,西安,710049;西安空军工程大学,航空电子工程系,陕西,西安,710038;西安交通大学,机械工程学院,陕西,西安,710049
摘    要:在用反射干涉频谱法(Rifs)测量薄膜厚度的过程中,使用"Y"型光纤作为传光的媒介,光纤测试端发射出的光照射到薄膜上,反射光又回到了该光纤中.对反射光进行频谱分析可以计算出薄膜测试处的厚度.由于是光学非接触式测量,而光束又有发散性,所以薄膜的表面不平度以及光纤相对于薄膜的位置直接影响测试的准确度.对该现象的研究表明:为提高测试准确度,必须尽量减少光纤的有效照射面积,以及保证薄膜基底的光滑,给出了具体方法.为保证薄膜上的反射光束能够回到光纤内部而不丢失厚度信息,给出了薄膜微观倾斜的极限角度.给出了光纤测试薄膜中"平均厚度"和"有效照射面积"的构想.

关 键 词:反射干涉光谱法  薄膜  光纤  表面
文章编号:1001-5868(2005)02-0112-03
修稿时间:2004年9月15日

Influence of Surface Unevenness on Thickness Measurement Precision of Thin Film
SUN Yan,ZHAO Hong,WANG Zhao.Influence of Surface Unevenness on Thickness Measurement Precision of Thin Film[J].Semiconductor Optoelectronics,2005,26(2):112-114.
Authors:SUN Yan  ZHAO Hong  WANG Zhao
Abstract:
Keywords:Rifs  thin film  optical fiber  surface
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