摘 要: | <正>201401024半导体元器件用抗反射涂料组合物:WO2013-89 277国际专利申请,英]/日本:AZ Electronic Materials IP(Nakasugi,Shigemasa等).-2013.06.20.-77页.-US2011/327 030(2011.12.15);IPC G03F7/11本发明涉及了一种抗反射涂料组合物及其耐光性涂层的成膜方法。由该组合物形成的抗反射涂层可用于半导体元器件的涂装,且具有耐光性。该组合物含有溶剂、聚合物(带有脂环族基团)和化合物(含有马来酰胺衍生物或马来酸酐衍生物)、光致产酸剂或交联剂。
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