首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

深亚微米工艺下集成电路的电磁兼容性设计(上)
作者姓名:李逍波 潘松
摘    要:随着IC设计逐步进入VDSM阶段,SOC逐步成为设计的主流,IC设计需要关注的问题也在逐步增加。以前设计时,主要关注芯片面积的大小;在80年代后期,延时(Delay)逐渐成为设计人员关注的问题;进入90年代芯片的功率消耗也成为必须考虑的问题;近来制造中的成品率(Yjeld),芯片工作中的可靠性,以及电磁干扰噪声(EMI—Noise)也开始成为设计必需满足的条件了。

关 键 词:深亚微米工艺 集成电路 电磁兼容性 设计 电磁干扰噪声
本文献已被 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号