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CIGS电池缓冲层CdS的制备工艺及物理性能
引用本文:敖建平,孙云,刘琪,何青,孙国忠,刘芳芳,李凤岩. CIGS电池缓冲层CdS的制备工艺及物理性能[J]. 太阳能学报, 2006, 27(7): 682-686
作者姓名:敖建平  孙云  刘琪  何青  孙国忠  刘芳芳  李凤岩
作者单位:南开大学光电子薄膜器件与技术研究所 天津300071(敖建平,孙云,何青,孙国忠,刘芳芳,李凤岩),南昌航空工业学院材料系 南昌330034(刘琪)
基金项目:国家高技术研究发展计划(863计划);南开大学校科研和教改项目;教育部重点实验室基金
摘    要:在含有醋酸镉、醋酸氨、硫脲和氨水的水溶液中,化学沉积CdS半导体薄膜,薄膜的厚度与搅拌强度有很大关系,表明薄膜的生长速度是由OH-和SC(NH2)2的扩散传质为控制步骤。CdS薄膜的电阻率在104~105Ω.cm之间。CdS薄膜的晶格在乙酸胺浓度较小时,为六方晶和立方晶混合结构;乙酸胺浓度较大时,为立方晶结构。利用六方晶与立方晶混合的CdS制备的CIGS太阳电池,光电转换效率最大可达12.1%,3.5×3.6cm2小面积组件为6.6%。立方相CdS制备的最佳电池效率达到12.17%。两种晶相结构的CdS薄膜对CIGS太阳电池的性能影响没有明显的差别。

关 键 词:CBD  CdS薄膜  CIGS太阳电池
文章编号:0254-0096(2006)07-0682-05
收稿时间:2005-02-26
修稿时间:2005-02-26

DEPOSITED TECHNOLOGY AND PHOTO-ELECTRIC PROPERTIES OF CdS THIN FILMS
Ao Jianping,Sun Yun,Liu Qi,He Qing,Sun Guozhong,Liu Fangfang,Li Fengyan. DEPOSITED TECHNOLOGY AND PHOTO-ELECTRIC PROPERTIES OF CdS THIN FILMS[J]. Acta Energiae Solaris Sinica, 2006, 27(7): 682-686
Authors:Ao Jianping  Sun Yun  Liu Qi  He Qing  Sun Guozhong  Liu Fangfang  Li Fengyan
Affiliation:Ao Jianping~1,Sun Yun~1,Liu Qi~2,He Qing~1,Sun Guozhong~1,Liu Fangfang~1,Li Fengyan~1
Abstract:
Keywords:CBD  CdS thin film  CIGS solar cells
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