| 硅基多孔氧化铝薄膜微结构的TEM研究 |
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| 引用本文： | 赵小宁,濮林,吴俊辉,邹建平,朱健民,鲍希茂,冯端. 硅基多孔氧化铝薄膜微结构的TEM研究[J]. 电子显微学报, 2000, 19(4): 473-474 |
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| 作者姓名： | 赵小宁 濮林 吴俊辉 邹建平 朱健民 鲍希茂 冯端 |
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| 作者单位： | 1. 南京大学现代分析中心,南京,210093
2. 南京大学物理系固体微结构国家实验室,南京,210093 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目! (5 9832 10 0 )，攀登计划资助项目 |
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| 摘 要： | 阳极氧化多孔氧化铝薄膜(anodicporousaluminafilm,APA)作为模板的应用已引起广泛关注。它的优点在于其主要的特征参数如孔径(1～300nm)、孔长(10～3000nm)及孔密度(108～1011cm-2)都可以用选择不同腐蚀电压的方法来加以控制,孔的长度直径比可达1000以上[1],而且在理想的APA膜中,孔阵列规则排列为蜂巢状六方结构[2]。这一特点为大面积原位合成规则排列纳米量子点/线材料提供了重要保证。考虑到和当前主流硅集成半导体工业相匹配,硅基多孔氧化铝薄膜(Si-basedanodicporousaluminafilm,APA/Si)的应用已见报道[3,4]。我们研究发现当孔径小…
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| 关 键 词： | 硅基 多孔氧化铝薄膜 微结构 TEM |
TEM study of silicon-based anodic porous alumina film |
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| ZHAO Xiao-ning,PU Lin,WU Jun-hui,ZOU Jian-ping,ZHU Jian-min,BAO Xi-mao,FENG Duan. TEM study of silicon-based anodic porous alumina film[J]. Journal of Chinese Electron Microscopy Society, 2000, 19(4): 473-474 |
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| Authors: | ZHAO Xiao-ning PU Lin WU Jun-hui ZOU Jian-ping ZHU Jian-min BAO Xi-mao FENG Duan |
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