| 铁电薄膜Bi3.2Nd0.8Ti3O12的制备及其特性的研究 |
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| 引用本文： | 王宁章 李兴教. 铁电薄膜Bi3.2Nd0.8Ti3O12的制备及其特性的研究[J]. 压电与声光, 2005, 27(5): 523-525 |
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| 作者姓名： | 王宁章 李兴教 |
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| 作者单位： | [1]华中科技大学电子系,湖北武汉430074 [2]广西大学计算机与电子信息学院,广西南宁530004 |
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| 基金项目： | 广西大学基金资助项目（X002081）;武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室基金资助项目 |
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| 摘 要： | 用脉冲激光淀积法成功地在p-Si底片上制备了高c轴取向的Bi3．2Nd0．8Ti3O12铁电薄膜，研究了薄膜的铁电性能及疲劳特性。研究表明，用钕Nd替代Bi的3．2Nd0．8Ti3O12薄膜具有较好电滞回线（P-E），在应用电压为10V，测试频率为1MHz下，其剩余极化（Pr）及矫顽场（E）分别达到27μC／cm^2和70kV／cm。更为重要的是，Au／Bi3．20Nd0.80Ti3O12／p-Si（100）电容在读／写开关次数达到10^10后仍表现出较好的抗疲劳特性。
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| 关 键 词： | 铁电薄膜 Bi3．2Nd0．8Ti3O12 剩余极化 脉冲激光淀积 |
| 文章编号： | 1004-2474(2005)05-0523-03 |
| 收稿时间： | 2005-03-18 |
| 修稿时间： | 2005-03-18 |
Studies of the Preparation and Characterization of Bi3.2Nd0.8Ti3O12 Ferroelectric Thin Films |
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| WANG Ning-zhang ,LI Xing-jiao(. Dept. of Solid State Electronics, Huazhong University of Science. Studies of the Preparation and Characterization of Bi3.2Nd0.8Ti3O12 Ferroelectric Thin Films[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 2005, 27(5): 523-525 |
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| Authors: | WANG Ning-zhang LI Xing-jiao(. Dept. of Solid State Electronics Huazhong University of Science |
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| Affiliation: | WANG Ning-zhang ,LI Xing-jiao(1. Dept. of Solid State Electronics, Huazhong University of Science |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ferroelectric films Bi3.2Nd0.8Ti3O12 remanent polarization pulsed excimer laser deposition |
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