类金刚石薄膜的获得和应用 |
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引用本文: | 罗崇泰.类金刚石薄膜的获得和应用[J].真空与低温,1987(1). |
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作者姓名: | 罗崇泰 |
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作者单位: | 兰州物理研究所 |
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摘 要: | 类金刚石薄膜是七十年代初期出现的新型非金属薄膜材料之一.这种与金刚石的特性相接近的薄膜具有优良的耐磨、耐蚀性以及许多优良的光学性能.在文章的第二部分介绍了离子束沉积和等离子沉积两种获得类金刚石薄膜的原理和方法,其中,离子束沉积法又分为低能碳离子束沉积法和双离子束及磁控溅射石墨沉积法两种:等离子体沉积法又分为辉光放电等离子体沉积法和大面积微波放电沉积法两种.介绍了薄膜的组分与结构和主要的沉积条件的关系.第三部分介绍了薄膜的物理性能、机械性能、光学性能.在介绍的同时继续以具体的文献说明主要的沉积条件对这些特性的影响.最后展望了类金刚石薄膜在8个方面的应用.文末附有参考文献19篇.
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关 键 词: | 薄膜 真空镀膜 耐磨材料 红外透射光学材料 材料性能 |
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