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纳米Bi_2O_3掺杂对ZnO压敏电阻片电学性能的影响
引用本文:夏昌其,钟春燕,李自立.纳米Bi_2O_3掺杂对ZnO压敏电阻片电学性能的影响[J].山东化工,2019(16).
作者姓名:夏昌其  钟春燕  李自立
作者单位:贵州工业职业技术学院
摘    要:为获得电学性能优异、生产成本低的ZnO压敏电阻片,本文采用传统陶瓷烧结技术制备ZnO压敏电阻片,研究不同含量纳米Bi_2O_3掺杂对ZnO压敏电阻片的电位梯度、漏电流、非线性系数等电性能的影响。采用压敏电阻直流参数仪对ZnO压敏电阻片的电学性能进行表征。实验结果表明,随着纳米Bi_2O_3含量的增加,ZnO压敏电阻片的电位梯度先升高后降低,漏电流变化不显著,非线性系数先增大后减小。当掺杂纳米Bi_2O_3摩尔分数为0.80%时,ZnO压敏电阻片的电学性能最佳。

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