|
|||||
|
|
| 光学薄膜的淀积 | |
| 作者姓名： | 吴宗兰 |
| 摘 要： | 本文评述某些薄膜淀积工艺在制备光学薄膜中的可能应用,这些工艺可以归入离子辅助淀积技术大类。热蒸发是最通用的工艺并已发展到各方面的性能都很高的阶段。讨论了可作进一步改进的几个方面,特别是用离子辅助淀积技术进行这种改进的可能性。引言没有光学薄膜镀层,多数现代光学仪器就不能工作。薄膜镀层在减少反射,从而增加透 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||
|
||||||||||||
|
||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |