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高静电场下的薄膜测厚技术
引用本文:周余平,于惠忠. 高静电场下的薄膜测厚技术[J]. 仪表技术与传感器, 2001, 0(8): 40-41
作者姓名:周余平  于惠忠
作者单位:清华大学工程物理系,北京市,100084
摘    要:针对实际生产中遇到的薄膜静电影响问题,采用一种比较巧妙的电路方法-线圈隔离法消除了静电的影响,该技术是一种实有的在线薄膜测试量技术,也可以运用到其他电容式传感器非接触式的在线测量中。

关 键 词:电容式传感器 薄膜测厚 静电场
修稿时间:2001-01-18

A New Technology of Testing the Film Sickness in the Static State
Zhou Yuping,Yu Huizhong Tsinghua University,Beijing. A New Technology of Testing the Film Sickness in the Static State[J]. Instrument Technique and Sensor, 2001, 0(8): 40-41
Authors:Zhou Yuping  Yu Huizhong Tsinghua University  Beijing
Affiliation:Zhou Yuping,Yu Huizhong Tsinghua University,Beijing 100084
Abstract:This paper describes a new technology of testing the sickness.We introduce a method to avoid the effect of static in the capacitance sensor. This method can especially be used in the film thickness measuring.
Keywords:Measurement  Capacitive Sensors  Film Sickness
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