首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

基于卷积神经网络判定方法的激光微透镜阵列微米级加工工艺
作者姓名:姚宇超  周锐  严星  王振忠  高娜
作者单位:1. 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院;2. 福建省能源材料科学与技术创新实验室(IKKEM);3. 厦门大学航空航天学院;4. 厦门大学物理科学与技术学院;5. 厦门大学九江研究院
基金项目:国家自然科学基金资助项目(No.62175203);;福建省科技计划资助项目(No.2020H0006);
摘    要:在MLA曝光工艺中,曝光点的数量庞大,通过高倍率显微镜配合人工目检来判定曝光质量耗时耗力,造成工艺成本偏高。为了解决这个问题,设计了一种便于检测的圆环形图案并引入深度学习中的目标检测Yolov5模型,一定程度上能够取代人工目检,完成对曝光质量的快速判定。基于上述方法,分析了不同光刻胶厚度之下,线能量密度的最优区间与光刻胶的剖面倾角。并在同等线能量密度下通过圆度判定曝光图案失真情况。在本研究的MLA曝光工艺中,选取光刻胶厚度、激光曝光功率以及加工平台移动速度作为自变量,评价曝光合格率、光刻胶剖面倾角以及曝光圆度等加工质量参数具有重要的工程意义。

关 键 词:无掩膜光刻  微透镜阵列  曝光合格率  目标检测
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号