基于卷积神经网络判定方法的激光微透镜阵列微米级加工工艺 |
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作者姓名: | 姚宇超 周锐 严星 王振忠 高娜 |
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作者单位: | 1. 厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院;2. 福建省能源材料科学与技术创新实验室(IKKEM);3. 厦门大学航空航天学院;4. 厦门大学物理科学与技术学院;5. 厦门大学九江研究院 |
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基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(No.62175203);;福建省科技计划资助项目(No.2020H0006); |
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摘 要: | 在MLA曝光工艺中,曝光点的数量庞大,通过高倍率显微镜配合人工目检来判定曝光质量耗时耗力,造成工艺成本偏高。为了解决这个问题,设计了一种便于检测的圆环形图案并引入深度学习中的目标检测Yolov5模型,一定程度上能够取代人工目检,完成对曝光质量的快速判定。基于上述方法,分析了不同光刻胶厚度之下,线能量密度的最优区间与光刻胶的剖面倾角。并在同等线能量密度下通过圆度判定曝光图案失真情况。在本研究的MLA曝光工艺中,选取光刻胶厚度、激光曝光功率以及加工平台移动速度作为自变量,评价曝光合格率、光刻胶剖面倾角以及曝光圆度等加工质量参数具有重要的工程意义。
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关 键 词: | 无掩膜光刻 微透镜阵列 曝光合格率 目标检测 |
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