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| 用离子束混合形成硅化钛 | |
| 引用本文： | 胡仁元.用离子束混合形成硅化钛[J].半导体学报,1985,6(1):107-112. |
| 作者姓名： | 胡仁元 |
| 作者单位： | 北京师范大学低能核物理研究所 |
| 摘 要： | 我们用一种新方法在硅上形成硅化物,硅片上溅射一层600 A的钛膜,在室温下用400keV4×10~(15)Xe~(++)/cm~2,1×10~(16)Xe~(++)/cm~2辐照,利用离子来混合效应形成1000A硅化钛膜.用MeV He 离子背散射方法研究了硅化钛组成和厚度并讨论了形成机制. |
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