| ZnO掺杂Li+陶瓷靶及溅射膜制备工艺研究 |
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| 引用本文： | 陈祝,张树人,杜善义,杨成韬,孙明霞,郑泽渔,李波,董加和. ZnO掺杂Li+陶瓷靶及溅射膜制备工艺研究[J]. 功能材料, 2006, 37(4): 583-586,590 |
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| 作者姓名： | 陈祝 张树人 杜善义 杨成韬 孙明霞 郑泽渔 李波 董加和 |
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| 作者单位： | 电子科技大学,微电子与固体电子学院,四川,成都,610054;哈尔滨工业大学,复合材料研究所,黑龙江,哈尔滨,150001 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划) |
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| 摘 要： | 利用固相反应成功地制备了直径为70mm,厚度为10～15mm的掺杂Li离子ZnO陶瓷靶材.研究了不同摩尔浓度的Li离子掺杂靶材,并对其绝缘电阻与损耗进行了分析比较,最终确定Li离子的最佳掺杂量为2.2l%(摩尔分数).同时通过在不同温度烧结试验、不同成型压力试验确定了ZnO靶材制备的最佳工艺,并通过所制备的ZnO-Li0.022陶瓷靶,采用RF射频磁控溅射技术在Si(100)、玻璃(载玻片)、及Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)基片上制备出高度c轴(002)择优取向、均匀、致密的ZnO薄膜.
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| 关 键 词： | 陶瓷靶 氧化锌薄膜 射频磁控溅射 择优取向 |
| 文章编号： | 1001-9731（2006）04-0583-04 |
| 收稿时间： | 2005-08-23 |
| 修稿时间： | 2005-08-232005-10-26 |
The experimental investigation on preparation of Li-doped ZnO ceramic targets and sputtering thin films |
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| CHEN Zhu,ZHANG Shu-ren,DU Shan-yi,YANG Cheng-tao,SUN Ming-xia,ZHENG Ze-yue,LI Bo,DONG Jia-he. The experimental investigation on preparation of Li-doped ZnO ceramic targets and sputtering thin films[J]. Journal of Functional Materials, 2006, 37(4): 583-586,590 |
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| Authors: | CHEN Zhu ZHANG Shu-ren DU Shan-yi YANG Cheng-tao SUN Ming-xia ZHENG Ze-yue LI Bo DONG Jia-he |
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| Affiliation: | 1. School of Microelectronics and Solid State Electronics, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China; 2. Center for Composite Materials, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001 ,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ceramic target zinc oxide films RF magnetron sputtering preferred orientation |
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