| 磁控溅射制备AlN薄膜的蒙特卡罗模拟 |
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| 引用本文： | 佟洪波,柳青.磁控溅射制备AlN薄膜的蒙特卡罗模拟[J].表面技术,2009,38(3). |
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| 作者姓名： | 佟洪波 柳青 |
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| 作者单位： | 辽宁石油化工大学机械工程学院,辽宁抚顺,113001 |
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| 摘 要： | 应用蒙特卡罗程序TRIM对Ar+轰击AIN的微观过程进行了模拟.对不同能量以及不同角度下Ar+轰击AlN引起的溅射产额进行了系统的研究.随着入射离子能量的逐渐增加,AlN的溅射产额呈上升趋势.AlN的溅射产额随入射角增加而逐渐升高,在75°左右达到峰值,超过75°后,溅射产额急剧下降.实验发现垂直入射时和斜入射时,Al和N两元素的分溅射产额的比值变化规律有着明显的不同.
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| 关 键 词： | AlN薄膜 溅射产额 蒙特卡罗模拟 |
Monte-carlo Simulation of Magnetron Sputtering of AlN Thin Tilms |
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| TONG Hong-bo,LIU Qing.Monte-carlo Simulation of Magnetron Sputtering of AlN Thin Tilms[J].Surface Technology,2009,38(3). |
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| Authors: | TONG Hong-bo LIU Qing |
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| Affiliation: | TONG Hong-bo,LIU Qing(School of Mechanical Engineering,Liaoning Shihua University,Fushun 113001,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | AlN thin films Sputtering yield Monte-carlo simulation |
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