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高频溅射碳化硅薄的退火效应
作者姓名:
陈伟 石磊
作者单位:
中国科学技术大学结构研究开放实验室
摘 要:
本采用高频溅射方法,在抛光Si(111)衬底上制备出碳化硅薄膜,了薄膜的高温真空退火勺,实验表明,退火后的薄膜具有较淡理想的结晶取向和发光性质。
关 键 词:
碳化硅薄膜 退火效应 高频溅射
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