MBE生长面发射激光器的的位厚度监测 |
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引用本文: | 周增圻,潘钟.MBE生长面发射激光器的的位厚度监测[J].半导体学报,1996,17(8):589-594. |
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作者姓名: | 周增圻 潘钟 |
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作者单位: | 国家光电子工艺中心 |
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摘 要: | 在MBE生长“DBR型结构性材料”的过程中,由于生长中的多层结构干涉效应,使高温黑体辐射谱呈现振荡现象,利用此现象辅以计算机数据拟合,可以实现MBE生长中层次、组分和厚度的实时监控,对MEBE系统生长垂直腔型结构材料的实时质量监控有重要意义,我们首次在国内采用这项技术,利用红外高温仪对VCSEL器件生长全过程(包括谐振腔)及多种组分DBR的表观衬底热辐射振荡进行监测,采用准黑体模型,结合扫描电镜,
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关 键 词: | MBE生长 面发射激光器 监测 激光器 |
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