Fowler—Nordheim高电场应力引起的MOS结构损伤研究 |
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引用本文: | 高文钰,大西一功.Fowler—Nordheim高电场应力引起的MOS结构损伤研究[J].半导体学报,1996,17(2):98-104. |
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作者姓名: | 高文钰 大西一功 |
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摘 要: | 本文研究了Fowler-Nordheim高电场应力引起的MOS结构损伤及其室温退火。结果表明有四种损伤产生,氧化物正电荷建立,Si/SiO2快界面态增长,慢界面态产生和栅介质电容下降,当终止应力后,前三种损伤在室温下有所恢复,但最后一种损伤没有变化,实验还表明:产生的慢界面态分布在禁带上半部;高电场下栅介电容呈现无规阶梯型下降,对四种损伤及其室温退火机理进行了讨论,还给出产生的慢界面态对高频电容-
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关 键 词: | MOS器件 高电场应力 应力 损伤 |
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