| 蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺研究 |
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| 引用本文： | 赵之雯. 蓝宝石衬底的化学机械抛光工艺研究[J]. 微细加工技术, 2007, 0(6): 27-30 |
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| 作者姓名： | 赵之雯 |
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| 作者单位： | 福建工程学院电子信息与电气工程系,福州,350014 |
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| 摘 要： | 由于蓝宝石衬底片的精密加工工艺复杂,最优工艺参数尚未明确,是目前国内重点研究的难题.采用X62 81521型抛光机对蓝宝石衬底片的精密加工技术一化学机械抛光工艺进行了研究.通过对蓝宝石抛光工艺性能参数的系统分析,采用了粒径为40 nm、低分散度的碱性SiO2,溶胶抛光液;通过大量实验总结,提出了优化方案,在pH值11.7、温度40 °c、压力在0.12 Mpa至0.15 Mpa时,可以获得的去除速率为12.1μm/h,表面粗糙度为0.58 nm,有效地提高了蓝宝石表面的性能及加工效率.
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| 关 键 词： | 蓝宝石 化学机械抛光 纳米硅溶胶 |
| 文章编号： | 1003-8213(2007)06-0027-04 |
| 修稿时间： | 2007-08-14 |
Research of Sapphire Chemical Mechanical Polishing Technology |
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| ZHA Zhi-wen. Research of Sapphire Chemical Mechanical Polishing Technology[J]. Microfabrication Technology, 2007, 0(6): 27-30 |
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| Authors: | ZHA Zhi-wen |
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| Keywords: | |
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