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| 聚硅烷(紫外光敏材料)的氧等离子体处理特性 | |
| 作者姓名： | 谢茂浓 傅鹤鉴 |
| 作者单位： | [1]四川联合大学物理系 [2]四川联合大学化学系 |
| 摘 要： | 红外吸收谱分析表明，聚硅烷（ＰｏｌｙｍｅｔｈｙｌＰｈｅｎｅｔｈｙｌＳｉｌａｎｅ，ＰＭＰＥＳ）在氧等离子体处理后转变成ＰＳｉＯｘ膜，ＰＳｉＯｘ中的ｘ在１．５～２之间，其高频Ｃ－Ｖ特性曲线的平带电压为正，大小与氧等离子处理条件和ＰＭＰＥＳ厚度有关． |
| 关 键 词： | 聚硅烷 氧等离子体处理 紫外光敏材料 |
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