| 团簇离子束技术的应用进展 |
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| 引用本文： | 侯爱国,吴卫东,王红斌,王万录,廖克俊,方亮,唐永健. 团簇离子束技术的应用进展[J]. 材料导报, 2006, 20(4): 82-85 |
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| 作者姓名： | 侯爱国 吴卫东 王红斌 王万录 廖克俊 方亮 唐永健 |
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| 作者单位： | 重庆大学数理学院,重庆,400044;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900;重庆大学数理学院,重庆,400044 |
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| 摘 要： | 薄膜的制备方法对薄膜的性能和应用有很大影响,精密的电子器件、光学装置等越来越需要高品质的薄膜,这些都需要采用先进的制备方法来制备.结合近年来实验、计算机模拟及理论计算等各方面的研究结果,对应用团簇离子束法制备薄膜及研究团簇粒子方面的研究进展进行了评述,分析了影响薄膜性能的因素,并初步探讨了其成膜机理及团簇粒子的性质.
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| 关 键 词： | 团簇离子束 电子结构 薄膜 |
A Study on the Structure Properties of the Cluster and Its Application in the Preparation Film by Ionized Cluster Beam |
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| HOU Aiguo,WU Weidong,WANG Hongbin,WANG Wanlu,LIAO Kejun,FANG Liang,TANG Yongjian. A Study on the Structure Properties of the Cluster and Its Application in the Preparation Film by Ionized Cluster Beam[J]. Materials Review, 2006, 20(4): 82-85 |
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| Authors: | HOU Aiguo WU Weidong WANG Hongbin WANG Wanlu LIAO Kejun FANG Liang TANG Yongjian |
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| Affiliation: | 1 College of Math and Phys,Chongqing University, Chongqing 400044; 2 Research Center of Laser Fusion, China Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ICB electron structure film |
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