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中温化学镀镍加速剂的研究
引用本文:邹建平,贺子凯,黄鑫.中温化学镀镍加速剂的研究[J].电镀与环保,2004,24(6):27-29.
作者姓名:邹建平  贺子凯  黄鑫
作者单位:中国科学院福建物质结构研究所国家重点实验室,福建福州,350002;昆明理工大学,材料与表面工程研究所,云南,昆明,650093
摘    要:综述了现有的几种加速措施 ,在此基础上发现加速剂效果较好 ,并研究了促进剂对中低温化学镀镍沉积速率的影响 ,结果表明 ,有机酸G加速效果最好 ,当其浓度为 6g/L时 ,镀速达到 2 2 μm/h ,镀层性能良好。

关 键 词:化学镀镍  中温  镀速  加速剂
文章编号:1000-4742(2004)06-0027-03
修稿时间:2004年7月5日

A Research on the Accelerator for Middle Temperature Electroless Nickel Plating
ZOU Jian-ping ,HE Zi-kai ,HUANG Xin.A Research on the Accelerator for Middle Temperature Electroless Nickel Plating[J].Electroplating & Pollution Control,2004,24(6):27-29.
Authors:ZOU Jian-ping  HE Zi-kai  HUANG Xin
Affiliation:ZOU Jian-ping 1,HE Zi-kai 2,HUANG Xin 2
Abstract:
Keywords:Electroless nickel plating  Middle-temperature  Plating rate  Accelerator
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