| 射频磁控溅射制备Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜的表面结构调控 |
| |
| 引用本文： | 王萍,李弢,谢波玮,古宏伟. 射频磁控溅射制备Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜的表面结构调控[J]. 稀有金属, 2007, 31(1): 125-128 |
| |
| 作者姓名： | 王萍 李弢 谢波玮 古宏伟 |
| |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院超导材料研究中心,北京,100088 |
| |
| 摘 要： | 研究了Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备Ba0.7Sr0.3TiO3(BST7/3)薄膜时,基片加热温度和溅射功率对薄膜显微形貌和成相的影响。实验结果表明:常温下低功率溅射的BST7/3薄膜,表面形貌非常平整,但为非晶态物质的堆积;400℃高功率150 W溅射4 h的BST薄膜,其最大表面起伏约为40 nm;400℃低功率、长时间8 h溅射的BST薄膜,其表面起伏约为12 nm;说明在保证BST充分成相的前提下,可以通过控制溅射功率和时间调控BST薄膜的表面形貌,降低表面粗糙度,使之适于后续器件制备工艺。介电性能测量表明,400℃,75 W,8 h溅射获得的BST7/3薄膜体现出典型的位移型铁电体特征;1 kHz薄膜的损耗约为0.04。
|
| 关 键 词： | 射频磁控溅射 BST薄膜 表面形貌 |
| 文章编号： | 0258-7076（2007）01-0125-04 |
| 修稿时间： | 2005-09-062006-11-15 |
Crystallization and Surface Microstructure Control of BaxSr1-xTiO3 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering |
| |
| Wang Ping,Li Tao,Xie Bowei,Gu Hongwei. Crystallization and Surface Microstructure Control of BaxSr1-xTiO3 Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Rare Metals, 2007, 31(1): 125-128 |
| |
| Authors: | Wang Ping Li Tao Xie Bowei Gu Hongwei |
| |
| Affiliation: | Superconducting Materials Research Center, General Research Institute for Non-Ferrous Metals, Beijing 100088, China |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Pt/Ti/SiO2/Si |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
