| 高性能193nm反射膜的制备与误差分析 |
| |
| 引用本文： | 尚淑珍,徐山清,邵建达. 高性能193nm反射膜的制备与误差分析[J]. 应用激光, 2008, 28(3) |
| |
| 作者姓名： | 尚淑珍 徐山清 邵建达 |
| |
| 作者单位： | 1. 华东理工大学机械与动力工程学院承压系统安全科学教育部重点实验室,上海,2002372
2. 中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术与研究发展中心,上海,201800 |
| |
| 基金项目： | 上海市重点学科建设项目 |
| |
| 摘 要： | 分析了膜厚控制误差对反射膜设计曲线的影响,发现高低折射率材料厚度反方向变化时(高折射率膜层厚度增加,低折射率膜层厚度减小),反射膜的反射率变化不明显,设计的膜系结构对这种膜厚变化方式的制造误差宽容.在此基础上制备了193nm反射膜,结果表明退火前光学损耗相对较大,实验结果与理论计算结果存在一定差距,并且散射损耗在总的光学损耗中所占比例很小,而吸收损耗占光学损耗的主要部分,起主导作用.退火后光学损耗明显下降,实验结果与理论计算结果更为接近,193nm反射膜的反射率达98%以上.散射损耗增加至接近吸收损耗的水平,不过在总的光学损耗中仍然占比较小的比例.说明当吸收损耗下降到一定程度时,散射损耗所起的作用也是不可忽视的.
|
| 关 键 词： | 193nm 反射膜 误差分析 吸收 散射 高性能 反射率 膜的制备 误差分析 Mirrors Error Analysis 程度 比较 水平 作用 吸收损耗 比例 散射损耗 存在 理论计算 实验 光学损耗 退火 结果 制造误差 |
The Preparation and Error Analysis of High-property 193nm HR Mirrors |
| |
| Shang Shuzhen,Xu Shanqing,Shao Jianda. The Preparation and Error Analysis of High-property 193nm HR Mirrors[J]. Applied Laser, 2008, 28(3) |
| |
| Authors: | Shang Shuzhen Xu Shanqing Shao Jianda |
| |
| Affiliation: | Shang Shuzhen1,Xu Shanqing1,Shao Ji,a2(1Key Lab of Safety Science of Pressurized System,Ministry of Education,School of Mechanical Engineering,East China University of Science , Technology,Shanghai 200237,China,2Shanghai Institute of Optics , Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China) |
| |
| Abstract: | The effects of errors of optical thickness on designing reflectance of 193nm HR mirrors were analyzed.It revealed that the reflectance of the HR mirrors changed slightly if the optical thickness of the high-and low-refractive index layers changed differently(the optical thickness of the high-refractive index layers increased and the optical thickness of the low-refractive index layers decreased).The designed film system could endure this kind of manufactured error perfectly.The 193nm HR mirrors were evapora... |
| |
| Keywords: | 193nm HR Coating error Analysis absorption scattering |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
