| 等离子增强磁控溅射沉积技术（PMD） |
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| 引用本文： | 凌国伟,倪翰,萧域星. 等离子增强磁控溅射沉积技术（PMD）[J]. 真空, 2001, 0(4): 14-16 |
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| 作者姓名： | 凌国伟 倪翰 萧域星 |
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| 作者单位： | 武汉材料保护所, |
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| 摘 要： | 本文介绍了等离子增强磁控溅射沉积技术。有关技术背景、技术发展、技术应用都作了论述。对技术关键问题进行了评论，并得出几点结论。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 等离子体 气相沉积 PMD 薄膜 制备 技术发展 |
| 文章编号： | 1002-0322(2001)04-0014-03 |
| 修稿时间： | 2001-07-09 |
Plasma-enhanced magnetron-sputtered deposition |
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| LING Guo wei,NI Han,XIAO Yu xing. Plasma-enhanced magnetron-sputtered deposition[J]. Vacuum(China), 2001, 0(4): 14-16 |
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| Authors: | LING Guo wei NI Han XIAO Yu xing |
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| Abstract: | This article presents an introduction to Plasma enhanced, magnetron sputtered deposition Technology. Its history, recent development and applications are discussed. The key to the technology is involved in, and some summaries also been given. |
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| Keywords: | plusma magnetion deposition |
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