|
|||||
|
|
| NdFe_(7-x)Mo_x薄膜的制备和磁性研究 | |
| 引用本文： | 顾卫东,姜恩永,刘明升.NdFe_(7-x)Mo_x薄膜的制备和磁性研究[J].真空科学与技术学报,1995(6). |
| 作者姓名： | 顾卫东 姜恩永 刘明升 |
| 作者单位： | 天津大学应用物理学系薄膜研究室!天津300072 |
| 摘 要： | 利用对向靶溅射，同时对基片进行退火处理的方法，在玻璃基片上成功地制备出了NdFe7-xMox（x=0，0．5）薄膜，并对其进行了磁性研究。VSM测量结果表明，Mo掺入导致了材料矫顽力Hc的增大，却相应降低了饱和磁化强度Ms。随着退火温度T的提高，Hc随之增大，当T=573K时，出现一极大值为37．8kA／m，此时的热磁测量表明，样品具有最高居里温度，Tc=775K。 |
| 关 键 词： | 对向靶溅射 退火温度 矫顽力 饱和磁化强度 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |