| DY－5型亚微米电子束曝光机 |
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| 引用本文： | 武丰煜,顾文琪.DY－5型亚微米电子束曝光机[J].微细加工技术,1996(1). |
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| 作者姓名： | 武丰煜 顾文琪 |
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| 作者单位： | 中国科学院电工研究所 |
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| 摘 要： | 本文介绍了ＤＹ－５型亚微米电子束曝光机的主要技术性能：最细特征线宽０．４μｍ；图形位置精度及拼接精度优于±０．１５μｍ；扫描场尺寸１×１ｍｍ２和２×２ｍｍ２；最高扫描速度１ＭＨｚ；可加工１００×１００ｍｍ２掩模版或Φ７５硅圆片。给出了部分曝光试验结果。
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| 关 键 词： | 电子束曝光机 光刻工艺 亚微米加工 |
DY-5 SUBMICRON ELECTRON BEAM EXPOSURE MACHINE |
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| Wu Fengyu,Gu Wenqi.DY-5 SUBMICRON ELECTRON BEAM EXPOSURE MACHINE[J].Microfabrication Technology,1996(1). |
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| Authors: | Wu Fengyu Gu Wenqi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | electron beam exposure machine lithography submicron fabrication |
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