豪泽公司研发第二代HIPIMS＋涂层技术

物理气相沉积（PVD）涂层工艺主要是通过电弧蒸发作用或磁控溅射作用来实现涂层在刀具表面的沉积。荷兰的PVD和等离子体辅助CVD涂层技术开发商——豪泽技术涂层公司（Hauzer Techno Coating BV）正在尝试用其第二代高能激发磁控溅射（HIPIMS＋）涂层技术对PVD涂层工艺进行创新变革。