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MLS结构的电容-电压特性
引用本文:张佐兰,郑茳,黄勤,陆祖宏,魏同立.MLS结构的电容-电压特性[J].材料研究学报,1992,6(1):64-67.
作者姓名:张佐兰  郑茳  黄勤  陆祖宏  魏同立
作者单位:东南大学微电子学中心,东南大学,东南大学,东南大学,东南大学 副教授,南京市 210018
摘    要:本文报导在 Si 衬底上拉制聚酰胺 LB 膜的电容-电压特性,结果表明:它具有与其它绝缘膜相似的特性,为聚酰胺 LB 膜应用于场效应器件奠定了基础。

关 键 词:LB膜  C-V特性  绝缘膜
收稿时间:1992-02-25
修稿时间:1992-02-25

C-V CHARACTERISTICS STUDIES ON MLS STRUCTURE
ZHANG Zuolan,ZHENG Jiang,HUANG Qin,LU Zuhong,WEI Tongli.C-V CHARACTERISTICS STUDIES ON MLS STRUCTURE[J].Chinese Journal of Materials Research,1992,6(1):64-67.
Authors:ZHANG Zuolan  ZHENG Jiang  HUANG Qin  LU Zuhong  WEI Tongli
Affiliation:Southeast University
Abstract:C-V characteristics of polyimide Langmuir-Blodegett films is described in thispaper.The obtained results are similar to other insulator films.This is basic of polyimide LBfilms application in field effect transistor(MLSFET).
Keywords:Langmuir-Blodgett(LB)films  C-V characteristics  insulator films
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