首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

双栅和环栅MOSFET中短沟效应引起的阈值电压下降
引用本文:甘学温,王旭社,张兴.双栅和环栅MOSFET中短沟效应引起的阈值电压下降[J].半导体学报,2001,22(12).
作者姓名:甘学温  王旭社  张兴
作者单位:北京大学微电子学研究所,北京,100871
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:基于电荷分享原理,推导了双栅和环栅MOSFET短沟效应引起的阈值电压下降,分析了衬底掺杂浓度、栅氧化层厚度及硅膜厚度等因素对阈值电压下降的影响,并用数值模拟验证了理论结果.这些研究结果对进一步开展纳米CMOS新器件的研究有很好的参考价值和实际意义.

关 键 词:双栅MOSFET  环栅MOSFET  电荷分享  阈值电压下降

Analysis of Threshold Voltage Decreasing for Double-Gate and Surrounding-Gate MOSFET's
Abstract:
Keywords:
本文献已被 万方数据 等数据库收录!
点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息
点击此处可从《半导体学报》下载全文
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号