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短沟道SOI MOSFET总剂量辐照效应模型
引用本文:万新恒,甘学温,张兴,黄如,王阳元. 短沟道SOI MOSFET总剂量辐照效应模型[J]. 半导体学报, 2001, 22(9)
作者姓名:万新恒  甘学温  张兴  黄如  王阳元
作者单位:北京大学微电子学研究所,
基金项目:高等学校博士学科点专项科研项目,国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:报道了一个含总剂量辐照效应的SOI MOSFET统一模型.该模型能自动计入体耗尽条件,不需要分类考虑不同膜厚时的情况.模型计算结果与实验吻合较好.该模型物理意义明确,参数提取方便,适合于抗辐照SOI器件与电路的模拟.

关 键 词:SOI MOSFET  总剂量辐照效应  模型

A Short-Channel SOI MOSFET Model Considering Total Dose Effects
Abstract:
Keywords:
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