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智能剥离SOI高温压力传感器
引用本文:黄宜平,竺士炀,李爱珍,鲍敏杭,沈绍群,王瑾,吴东平.智能剥离SOI高温压力传感器[J].半导体学报,2001,22(7).
作者姓名:黄宜平  竺士炀  李爱珍  鲍敏杭  沈绍群  王瑾  吴东平
作者单位:复旦大学电子工程系,
基金项目:上海市科技发展基金,国家自然科学基金
摘    要:采用改进的RCA清洗工艺提高了硅片的低温键合质量,提出了一种积聚式缓慢退火剥离方法用于制备智能剥离SOI(Silicon On Insulator)材料,并用该材料成功地研制了双岛-梁-膜结构的SOI高温压力传感器.对SOI压力传感器的测量结果表明,当温度增加到150℃左右时,输出电压没有明显的变化,其工作温度高于一般的体硅压力传感器(其工作温度一般在120℃以下).测得所制备SOI压力传感器的灵敏度为63mV/(MPa*5V),比用相同版图设计和工艺参数制备的多晶硅压力传感器高约7倍多.

关 键 词:SOI  压力传感器  低温键合  智能剥离  高温

High Temperature Pressure Sensor Fabricated with Smart-Cut SOI Materials
Abstract:
Keywords:
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