| 退火温度对蓝宝石衬底上Mg2Si薄膜质量和光学性质的影响 |
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| 引用本文： | 廖杨芳,谢泉.退火温度对蓝宝石衬底上Mg2Si薄膜质量和光学性质的影响[J].量子电子学报,2023(4):492-499. |
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| 作者姓名： | 廖杨芳 谢泉 |
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| 作者单位： | 1. 贵州师范大学物理与电子科学学院;2. 贵州大学大数据与信息工程学院 |
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| 基金项目： | 贵州省科技计划项目(黔科合基础[2019] 1225号)； |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射法在蓝宝石衬底上制备了结晶良好的Mg2Si多晶薄膜，研究了退火温度(375～475 oC)对薄膜晶体结构、表面形貌、拉曼光谱和光学性质的影响。X射线衍射(XRD)结果表明，当退火温度为400 oC时Mg2Si(220)衍射峰强度最强，样品结晶质量最好，未见明显可观测的MgO相。扫描电镜(SEM)结果表明，所有样品表面均呈现清晰可见的规则六边形，且退火温度对形貌影响较小。拉曼光谱结果显示所有样品均呈现出Mg2Si薄膜的特征峰(256 cm-1附近的F2g振动模)，同时出现345 cm-1附近的F1u(LO)声子模，表明生成样品均为结晶良好的Mg2Si薄膜。对薄膜光学性质的研究结果表明，随着退火温度升高，样品光学带隙先增大后减小。
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| 关 键 词： | 材料 薄膜 Mg2Si 退火温度 蓝宝石衬底 光学带隙 |
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