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热丝CVD金刚石薄膜制备及碳纳米管形核作用的研究
引用本文:侯亚奇,庄大明,等.热丝CVD金刚石薄膜制备及碳纳米管形核作用的研究[J].真空科学与技术,2002,22(1):53-57.
作者姓名:侯亚奇  庄大明
作者单位:清华大学机械工程系,北京100084
摘    要:利用热丝化学气相沉积法(HF-CVD)进行了金刚石薄膜制备和碳纳米管形核作用的研究。获得了制备金刚石薄膜的优化工艺参数。利用碳纳米管作为形核前驱获得了高质量的金刚石薄膜,其沉积速率可达2.5μm/h,晶粒生长完善,而且没有出现聚晶现象。研究了碳纳米管涂料质量对薄膜沉积特性的影响,并对其机理进行了初步探讨。

关 键 词:金刚石薄膜  热丝化学气相沉积  碳纳米管  形核前驱  制备  成膜质量  沉积速率
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