| 氧氩比和热处理对ZnO：Eu^3＋薄膜的结构及其发光性质的影响 |
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| 引用本文： | 高振杰,杨元政,王彦利,谢致薇.氧氩比和热处理对ZnO：Eu^3＋薄膜的结构及其发光性质的影响[J].中国材料科技与设备,2011(4):55-58. |
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| 作者姓名： | 高振杰 杨元政 王彦利 谢致薇 |
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| 作者单位： | 广东工业大学材料与能源学院,广东广州510006 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目（50771037）;高等学校博士学科点专项科研基金资助项目（200805620004） |
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| 摘 要： | 用射频磁控溅射法在石英衬底上制备了ZnO：Eu^3＋薄膜，通过X射线衍射仪和荧光光谱仪对样品进行了表征，考察了氧氩比和退火工艺对其结构及发光性能的影响。结果表明：样品均呈现ZnO的六角纤锌矿结构，适当的氧氩比有利于ZnO的C轴择优取向的形成，高温退火会使晶粒尺寸增大；合适的氧氩比，尤其是退火工艺（700℃）可以促进ZnO基质（372nm）到Eu^3＋离子（^5Do-^7F2）之间的能量传递，但过多的氧及高温退火不利于稀土Eu^3＋离子465nm（^7Fo-^5D2）到611nm（^5Do-^7F2）的直接能量传递。
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| 关 键 词： | ZnO：Eu^3＋ 磁控溅射 光致发光 |
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