太赫兹器件用新型复合多层金刚石材料的研究 |
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引用本文: | 李莉莉,丁明清,杜英华,冯进军,胡健楠.太赫兹器件用新型复合多层金刚石材料的研究[J].微波学报,2015(1):29-31. |
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作者姓名: | 李莉莉 丁明清 杜英华 冯进军 胡健楠 |
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作者单位: | 微波电真空器件国家级重点实验室北京真空电子技术研究所 |
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基金项目: | 国家重点基础研究发展计划(2013CB933602) |
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摘 要: | 微波器件频率进入太赫兹,输能窗的厚度减小至一百甚至几十微米。常规的介质材料,或者多晶金刚石材料已经难以满足强度和真空密封性能的要求。为此设计并研制出一种新型微/超纳米复合多层金刚石膜。该膜采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),通过反应气源和沉积参数的改变,实现在硅衬底上依次原位生长微米尺度和超纳米尺度的金刚石膜。研制的复合多层金刚石膜表面粗糙度Ra<0.5μm,生长面的断裂强度高达1550MPa,是普通多晶金刚石膜的三倍。用该膜封接的输能窗目前已经通过真空密封性测试,将首次应用于太赫兹真空器件。
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关 键 词: | 太赫兹 输能窗 复合多层金刚石 断裂强度 密封性 |
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