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长柱状β-Si3N4晶粒与SiC晶须在层状Si3N4/BN复合材料中的作用
引用本文:昝青峰,黄勇,汪长安,李淑琴,李翠伟.长柱状β-Si3N4晶粒与SiC晶须在层状Si3N4/BN复合材料中的作用[J].材料工程,2001(5):22-26.
作者姓名:昝青峰  黄勇  汪长安  李淑琴  李翠伟
作者单位:[1]清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084 [2]清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京10
基金项目:国家自然科学基金,59632090,
摘    要:用SiC晶须和长柱状β-Si3N4对Si3N4/BN层状材料的基体层和分隔层进行了强化,轧膜工艺对SiC晶须和原料中存在的少量β-Si3N4晶粒有一定的定向作用,而基体层中定向分布的SiC晶须和长柱状的β-Si3N4晶粒对基体层的强讳论作用类似于块体材料,其抗弯强度和断裂韧性的提高幅度都大于50%,分隔层中β-Si3N4的定向度较差,但这利利于形成网状结构,在分隔层中起到骨架的作用,同时还可以增加裂纹的扩展长度,改善分隔层与基体层的界面结合状态,最终得到性能最佳的材料的成分为Si3N4 20wt%SiC晶须(基体层),BN+15vol%β-SiN4(分隔层),其断裂功可达4820J/m2,抗弯强度仍可保持在650Mpa。β

关 键 词:层状材料  分隔层  复合材料  碳化硅晶须  长柱状β-氮化硅  陶瓷  力学性能
文章编号:1001-4381(2001)05-0022-05
修稿时间:2000年11月20日
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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