| 直流磁控溅射制备TiO2薄膜及其光响应研究 |
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| 引用本文： | 江伟,王怡,武光明,邢光建,韩彬.直流磁控溅射制备TiO2薄膜及其光响应研究[J].北京石油化工学院学报,2008,16(3). |
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| 作者姓名： | 江伟 王怡 武光明 邢光建 韩彬 |
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| 作者单位： | 北京化工大学,北京,100029;北京石油化工学院,北京,102617;北京石油化工学院,北京,102617 |
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| 基金项目： | 北京市教委科技发展计划项目 |
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| 摘 要： | 研究了制备工艺与热处理对TiO2薄膜光响应的影响。用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备TiO2薄膜，并分别在400℃与600℃下进行热处理，应用XRD、SEM、UV—Vis等分析方法对其进行表征。实验结果表明较高的温度与适当的氧分压可以提高薄膜的结晶度，随着温度的升高，薄膜晶粒粒径增大，其可见光透过率有所降低，而使薄膜的吸收阈值向长波方向移动。
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 直流磁控溅射 光响应 |
The Research of Photoresponse of TiO2 Thin Film Prepared by DC Magnetron Sputtering |
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| Jiang Wei,Wang Yi,Wu Guangming,Xing Guangjian,Han Bin.The Research of Photoresponse of TiO2 Thin Film Prepared by DC Magnetron Sputtering[J].Journal of Beijing Institute of Petro-Chemical Technology,2008,16(3). |
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| Authors: | Jiang Wei Wang Yi Wu Guangming Xing Guangjian Han Bin |
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