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| 电荷陷阱对器件稳定性的影响和监测电荷陷阱密度方法 | |
| 引用本文： | 顾瑛,张德胜.电荷陷阱对器件稳定性的影响和监测电荷陷阱密度方法[J].半导体技术,1989(2):26-27. |
| 作者姓名： | 顾瑛 张德胜 |
| 作者单位： | 西安电子科技大学 (顾瑛，张德胜)，西安电子科技大学(张民强) |
| 摘 要： | 本文论述了电荷陷阱对器件稳定性的影响;认为在器件制造过程中监测电荷陷阱密度是很重要的.本文介绍了雪崩注入法测量电荷陷阱密度的方法,并给出了测量结果. |
| 关 键 词： | 器件 稳定性 电荷陷阱 陷阱密度 |
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