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氧化铝陶瓷表面化学镀铜无钯活化新工艺
作者姓名:崔开放  钟良
作者单位:西南科技大学制造科学与工程学院,四川绵阳,621000
摘    要:研究了一种氧化铝陶瓷化学镀铜无钯活化新工艺。将基体放入CuSO_4和NaH_2PO_2的混合溶液中进行超声波浸润,然后通过热处理实现基体表面的无钯活化。通过正交试验,确定了活化的最佳工艺条件为:CuSO_4 20 g/L,NaH_2PO_2 80 g/L,超声波浸润时间2 min,活化温度145℃,活化时间10 min。此时镀层覆盖率达到100.0%。经高温活化后,基体表面附着一层均匀的、平均直径为40 nm的铜微粒。施镀后,化学镀铜层完全覆盖基板,组织均匀,结合力良好。

关 键 词:氧化铝陶瓷  化学镀铜  无钯活化  结合力
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