氧化铝陶瓷表面化学镀铜无钯活化新工艺 |
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作者姓名: | 崔开放 钟良 |
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作者单位: | 西南科技大学制造科学与工程学院,四川绵阳,621000 |
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摘 要: | 研究了一种氧化铝陶瓷化学镀铜无钯活化新工艺。将基体放入CuSO_4和NaH_2PO_2的混合溶液中进行超声波浸润,然后通过热处理实现基体表面的无钯活化。通过正交试验,确定了活化的最佳工艺条件为:CuSO_4 20 g/L,NaH_2PO_2 80 g/L,超声波浸润时间2 min,活化温度145℃,活化时间10 min。此时镀层覆盖率达到100.0%。经高温活化后,基体表面附着一层均匀的、平均直径为40 nm的铜微粒。施镀后,化学镀铜层完全覆盖基板,组织均匀,结合力良好。
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关 键 词: | 氧化铝陶瓷 化学镀铜 无钯活化 结合力 |
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