| 基片下磁场对溅射薄膜宏观形貌的影响 |
| |
| 引用本文： | 储开慧,狄国庆. 基片下磁场对溅射薄膜宏观形貌的影响[J]. 材料导报, 2005, 19(Z2): 330-331 |
| |
| 作者姓名： | 储开慧 狄国庆 |
| |
| 作者单位： | 1. 苏州大学物理系,苏州,215006
2. 苏州大学物理系,苏州,215006;江苏省薄膜材料重点实验室,苏州,215006 |
| |
| 摘 要： | 通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁,使来自基片下的磁场发挥作用,研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响.用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为:膜的中央有一圆斑,在圆斑的外围有环.Al薄膜的中央圆斑处没有物质,为空白圆斑;而Cu薄膜的中央圆斑处有物质.对这一实验现象的产生机理,初步认为是成膜粒子在磁场中表现出的波动性.
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 膜厚 梯度磁场 |
The Influence of the Magnetic Field under the Substrate on the Appearance of the Films |
| |
| CHU Kaihui,DI Guoqing. The Influence of the Magnetic Field under the Substrate on the Appearance of the Films[J]. Materials Review, 2005, 19(Z2): 330-331 |
| |
| Authors: | CHU Kaihui DI Guoqing |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
