| 微波等离子体法沉积镍膜的研究 |
| |
| 引用本文： | 于庆先,孙四通,张敬祎,高秀敏,黄富育,李烈英.微波等离子体法沉积镍膜的研究[J].微电子学,2010,40(4). |
| |
| 作者姓名： | 于庆先 孙四通 张敬祎 高秀敏 黄富育 李烈英 |
| |
| 作者单位： | 1. 青岛科技大学,材料科学与工程学院,山东,青岛,266042
2. 青岛环友等离子技术研究所,山东,青岛,266042 |
| |
| 基金项目： | 青岛市信息产业局资助项目 |
| |
| 摘 要： | 采用微波等离子镀膜机制备镍薄膜.该方法的特点是用纯金属镍为靶,用微波产生等离子体,用交流电源作为轰击电源,远程输运.使用XRD、SEM、EDS对采用微波等离子法沉积的薄膜进行表征,对实验结果进行分析,并对镀膜工艺进行了初步探索.
|
| 关 键 词： | 微波等离子体 镍膜 离子轰击 |
Study on Ni Thin-Film Deposition by MWPVD |
| |
| YU Qingxian,SUN Sitong,ZHANG Jingyi,GAO Xiumin,HUANG Fuyu,LI Lieying.Study on Ni Thin-Film Deposition by MWPVD[J].Microelectronics,2010,40(4). |
| |
| Authors: | YU Qingxian SUN Sitong ZHANG Jingyi GAO Xiumin HUANG Fuyu LI Lieying |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
