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铁杂质对微氮硅中氧沉淀的影响
引用本文:
张溪文,杨德仁,阙端麟.铁杂质对微氮硅中氧沉淀的影响[J].半导体学报,1998,19(5):381-384.
作者姓名:
张溪文
杨德仁
阙端麟
作者单位:
激荡大学硅材料科学国家重点实验室
摘 要:
通过研究微氮掺铁硅单晶的氧沉淀行为,发现低温预处理有助于高温退火时的氧沉淀,且氮、铁杂质均对氧沉淀有明显促进作用.首次发现氮杂质部分抑制了铁对氧沉淀的促进作用.
关 键 词:
微氮硅
氧沉淀
铁杂质
大规模集成电路
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