苯并三唑结构化合物修饰酪氨酸的耐光稳定性能

为提升酪氨酸的耐光稳定性能,实验以邻氨基苯酚为重氮组分、间苯二胺为耦合组分,通过氧化闭环反应合成了阶段产物(含伯胺基的苯并三唑结构化合物).在此基础上,将阶段产物与三聚氯氰发生一氯取代反应合成目标产物(含一氯均三嗪反应基团的苯并三唑结构化合物),并基于亲电取代反应实现目标产物对酪氨酸的共价修饰;采用紫外、红外、质谱测试表征了阶段产物、目标产物及修饰酪氨酸产物的结构,并对其紫外光降解性能进行了测试.结果表明,基于亲电取代反应可实现目标产物的合成及对酪氨酸的共价修饰,经过10 h紫外线光照射,酪氨酸光降解率达61.03%,而修饰酪氨酸产物的光降解率为26.4%,修饰后酪氨酸的光稳定性能得到大幅提升.