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| 增强PtSi形成的新方法 | |
| 引用本文： | 廖先炳.增强PtSi形成的新方法[J].半导体光电,1988(1). |
| 作者姓名： | 廖先炳 |
| 摘 要： | IBM公司最近报导一种增强PtSi形成的新方法,其方法十分简单,在清洁的Si表面淀积一层100(?)厚的Au膜,然后在Au膜上淀积Pt膜,最后构成Pt/Au/α-Si/Si衬底的结构,Au膜在形成PtSi中起着增强作用,即使在室温下,Au也较容易地与Si起反应,Si原 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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