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基底温度对磁控溅射制备ZnO薄膜性能的影响
引用本文:周明飞,宋学萍,孙兆奇. 基底温度对磁控溅射制备ZnO薄膜性能的影响[J]. 材料科学与工程学报, 2007, 25(4): 598-601
作者姓名:周明飞  宋学萍  孙兆奇
作者单位:安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039
基金项目:国家自然科学基金 , 高等学校博士学科点专项科研项目 , 安徽省人才基金 , 安徽省教育厅科研项目 , 安徽省信息材料与器件重点实验室资助项目 , 安徽大学校科研和教改项目
摘    要:利用射频磁控溅射,在Si基底上制备了ZnO薄膜.采用电子薄膜应力分布测试仪、X射线衍射和傅立叶变换红外光谱仪等检测手段研究了基底温度对其应力、微结构及光学性能的影响.ZnO薄膜在(002)晶面具有良好的c轴取向.在基底温度为200~300 ℃范围内,ZnO薄膜具有良好的结晶性能和较均匀的应力分布.红外光谱在430cm-1附近出现了Zn-O键的振动吸收峰.

关 键 词:ZnO薄膜  基底温度  微结构  应力  红外光谱
文章编号:1673-2812(2007)04-0598-04
修稿时间:2006-10-05

Effect of Substrate Temperature on Properties of ZnO Thin Films by Magnetron Sputtering
ZHOU Ming-fei,SONG Xue-ping,SUN Zhao-qi. Effect of Substrate Temperature on Properties of ZnO Thin Films by Magnetron Sputtering[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2007, 25(4): 598-601
Authors:ZHOU Ming-fei  SONG Xue-ping  SUN Zhao-qi
Abstract:
Keywords:ZnO thin films  substrate temperature  microstructure  stress  infrared spectra
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