| 大电流阴极的发射性能研究 |
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| 引用本文： | 张红卫,丁耀根,白振纲.大电流阴极的发射性能研究[J].电子器件,2003,26(3):248-252. |
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| 作者姓名： | 张红卫 丁耀根 白振纲 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院研究生院,北京,100080;中国科学院电子所,北京,100080
2. 中国科学院电子所,北京,100080 |
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| 摘 要： | 研究了新型钡钨阴极发射性能，并且分别用扫描电子显微镜(SEM)和工业CT微焦点系统来分析所研制的新型钡钨阴极的表面形貌和内部微细结构。该阴极不仅简化了传统浸渍钡钨阴极生产工艺，而且发射性能要优于传统工艺阴极。
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| 关 键 词： | 钡钨阴极 工业CT 扫描电镜 图像分析 |
| 文章编号： | 1005-9490(2003)03-0248-05 |
| 修稿时间： | 2003年4月7日 |
Study of Emitting Performance of High Current Cathode |
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| Affiliation: | Graduate School of Academia Sinica |
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| Abstract: | We studied the emitting performance of high current cathode, and analysed its surface and inner micro structures by the industrial computer tomography (ICT) and SEM. This new cathode can simplify the traditional manufacture procedure of the cathode, and its emitting performauce is also more better than the traditional cathodes. |
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| Keywords: | Cathode Industried CT SEM Imaging analysis |
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