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多晶氧化钨薄膜的制备及其红外反射调制性能研究
引用本文:黄银松,章俞之,宋力昕,胡行方.多晶氧化钨薄膜的制备及其红外反射调制性能研究[J].无机材料学报,2002,17(6):1263-1268.
作者姓名:黄银松  章俞之  宋力昕  胡行方
作者单位:中国科学院上海硅酸盐研究所 上海 200050
基金项目:国家自然科学基金(59932040-2)
摘    要:通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261~0.589的范围内可逆调节.

关 键 词:直流反应溅射  多晶氧化钨薄膜  Raman散射  红外反射  发射率  
文章编号:1000-324X(2002)06-1263-06
收稿时间:2001-10-15
修稿时间:2001年10月15

Preparation and Infrared Reflectance Modulation Characteristics of Polycrystalline Tungsten Oxide Film
HUANG Yin-Song,ZHANG Yu-Zhi,SONG Li-Xin,HU Xing-Fang.Preparation and Infrared Reflectance Modulation Characteristics of Polycrystalline Tungsten Oxide Film[J].Journal of Inorganic Materials,2002,17(6):1263-1268.
Authors:HUANG Yin-Song  ZHANG Yu-Zhi  SONG Li-Xin  HU Xing-Fang
Affiliation:Shanghai Institute of Ceramics; Chinese Academy of Sciences; Shanghai 200050; China
Abstract:Polycrystalline tungsten oxide films with good electrochemical stability were prepared by dc reactive sputtering methods. The Raman spectra of the films show that W6+ is reduced to W5+ with Li+ and electrons co-intercalation. Intercalated electrons entere extended states of crystalline tungsten oxide and cause infrared reflectance. The emissivity of WO3/ITO/Glass can be reversible modulated between 0.261-0.589.
Keywords:dc reactive sputtering  polycrystalline tungsten oxide films  infrared reflectance  
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