| 直流磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及电学性质研究 |
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| 引用本文： | 李丽,方亮,廖克俊,刘高斌,杨丰帆,付光宗. 直流磁控溅射制备ZnO薄膜的结构及电学性质研究[J]. 真空科学与技术学报, 2005, 25(Z1): 86-89 |
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| 作者姓名： | 李丽 方亮 廖克俊 刘高斌 杨丰帆 付光宗 |
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| 作者单位： | 重庆大学应用物理系,重庆,400044 |
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| 基金项目： | 重庆大学研究生创新基金(No.200506Y1B0240131);重庆市科技攻关项目(No.CSTC2005AA4006-A6);重庆大学数理学院青年基金资助 |
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| 摘 要： | 本文采用直流反应磁控溅射方法在平面玻璃上制备了ZnO薄膜.所得的ZnO薄膜利用X光衍射,扫描电子显微镜和原子力显微镜进行分析和表征.实验结果表明,ZnO薄膜的结构和电学性质与合成条件密切相关.并测试了ZnO薄膜的温差电动势,得出薄膜中的载流子浓度越大,温差电动势率越小;ZnO薄膜厚度越大,温差电动势率越小.本文对其结果进行了理论分析.
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| 关 键 词： | ZnO薄膜 磁控溅射 温差电动势率 载流子浓度 |
| 文章编号： | 1672-7126(2005)增-086-04 |
| 修稿时间： | 2004-12-01 |
Structural and Electrical Properties of ZnO Thin Film by DC Magnetron Sputtering |
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| Li Li,Fang Liang,Liao Kejun,Liu Gaobin,Yang Fengfan,Fu Guangzong. Structural and Electrical Properties of ZnO Thin Film by DC Magnetron Sputtering[J]. JOurnal of Vacuum Science and Technology, 2005, 25(Z1): 86-89 |
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| Authors: | Li Li Fang Liang Liao Kejun Liu Gaobin Yang Fengfan Fu Guangzong |
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