| 纳米级电子束曝光机用图形发生器 |
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| 引用本文： | 刘伟,方光荣,顾文琪.纳米级电子束曝光机用图形发生器[J].微细加工技术,2005(1):1-5,16. |
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| 作者姓名： | 刘伟 方光荣 顾文琪 |
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| 作者单位： | 中国科学院电工研究所,北京,100080 |
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| 基金项目： | 中国科学院知识创新工程重大项目资助(KGCX1-Y-8) |
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| 摘 要： | 为满足纳米级电子束曝光系统的要求，设计了高速图形发生器。该图形发生器包括硬件和软件两部分。硬件方面主要是利用高性能数字信号处理器(DSP)将要曝光的单元图形拆分成线条和点，然后通过优化设计的数模转换电路，将数字量转化成高精度的模拟量，驱动扫描电镜的偏转器，实现电子束的扫描。通过图形发生器还可以对标准样片进行图像采集以及扫描场的校正。配合精密定位的工件台和激光干涉仪，还可以实现曝光场的拼接和套刻。利用配套软件可以新建或导入通用格式的曝光图形，进行曝光参数设置、图形修正、图形分割、临近效应修正等工作，完成曝光图形的准备。结果表明，该图形发生器能够与整个纳米级电子束曝光系统协调工作，刻画出纳米级的图形。
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| 关 键 词： | 图形发生器 电子束曝光机 纳米 |
| 文章编号： | 1003-8213(2005)01-0001-05 |
Pattern Generator for Nanometer E-beam Lithography System |
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| LIU Wei,FANG Guang-rong,GU Wen-qi.Pattern Generator for Nanometer E-beam Lithography System[J].Microfabrication Technology,2005(1):1-5,16. |
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| Authors: | LIU Wei FANG Guang-rong GU Wen-qi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | patten generator electronic-beam lithography nanometer |
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