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陶瓷-金属封接的化学镀镍工艺
引用本文:刘慧卿. 陶瓷-金属封接的化学镀镍工艺[J]. 真空电子技术, 2006, 0(2): 55-56,58
作者姓名:刘慧卿
作者单位:北京真空电子技术研究所,北京,100016
摘    要:讨论了陶瓷-金属封接中化学镀镍与电镀镍工艺及相互之间的区别。

关 键 词:陶瓷-金属封接  二次金属化  电镀镍  化学镀镍  抗拉强度
文章编号:1002-8935(2006)02-0055-02
收稿时间:2005-11-30
修稿时间:2005-11-30

A Chemical Nickel Plating Technique of Ceramic-Metal Seals
LIU Hui-qing. A Chemical Nickel Plating Technique of Ceramic-Metal Seals[J]. Vacuum Electronics, 2006, 0(2): 55-56,58
Authors:LIU Hui-qing
Affiliation:Beijing Vacuum Electronics Research Institute, Beijing 100016, China
Abstract:The paper discusses the techniques of chemical plated nickel and electroplated nickel, as well as their difference in the ceramic-metal seal process.
Keywords:Ceramic-metal seal   Second metallizing    strength Electroplated nicke   Chemical plated nickel   Tensile
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